【重要】O plus E 隔月刊化と価格改定のお知らせ

OplusE 2006年12月号(第325号)

特集

レーザー応用技術の最新動向 ―高出力レーザーを中心に

■特集のポイント:「レーザー技術の新たな展開と将来像を知る」
東京大学 山下 真司
■高出力ファイバーレーザーと固体レーザー
電気通信大学 植田 憲一
■フェムト秒レーザー加工
京都大学 三浦 清貴
■レーザー生成プラズマによるリソグラフィー用EUV光源の開発
大阪大学 宮永 憲明
■極端紫外線(EUV)リソグラフィー光源用CO2レーザー
極端紫外線露光システム技術開発機構 有我 達也,遠藤 彰
■X線自由電子レーザー
理化学研究所 石川 哲也

寄稿

■重力場の理論としての一般相対論 ―後編―
University of Colorado 水島 正喬

連載

■第8・光の鉛筆[17] 「定在波の観測3」
ニコン 鶴田 匡夫
■レンズ光学入門 28. 波動光学の基礎3
東京工芸大学 渋谷 眞人
■波動光学の風景 17.19光ビーム
東芝 本宮 佳典
■ByersGuide 8 画像処理関連機器
■私の発言
東京大学名誉教授 矢島 達夫
■一枚の写真 「世界初,手のひらサイズのEDFA」
東北大学 電気通信研究所 中沢 正隆
■コンピュータ イメージ フロンティア VFX映画時評
■ホビーハウス 「ステレオ写真の本(80)」
鏡 惟史
■ものづくり雑話 「職人と学校出」
神尾 健三

コラム

■オフサイド(編集同人の声) 「人は出発地点に戻る?」
鏡 惟史
■O plus E ニュース
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伊賀健一・波多腰玄一
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